膜厚仪一些测量基本原理

　　有的人又把膜厚仪称为膜厚测量仪，主要分为两种类型，一种类型是手持式与台式两种，手持式的膜厚测量仪又有好几种类型，比如说电涡流镀层测厚仪，荧光X射线镀层膜厚测量仪。手持式的测量仪采用的测量原理是利用探头经过非铁磁覆盖二流入铁磁基体磁通的大小。对于，膜厚仪很多人对它测量原理是非常感兴趣的，我们一起来了解一下它的测量原理。

　　我们已经学习了手持膜厚仪的测量原理，接着我们再来学习一下台式测厚仪的测量原理。一些技术人员告诉我们，台式的荧光X射线膜厚仪，是一种通过一次X射线穿透金属元素样品的而产生的低能量的光子，这种低能量的光子又被称为二次荧光。可以通过高级计算机对这种能量进行计算，这种能量计算出来的值可以对厚度进行一定的衡量。

　　在膜厚仪中，比较流行的测量原理就是电涡流测量原理，我们一起来对电涡流测量原理进行比较详尽的学习，高频的交流信号一般会在侧头线圈中产生一定的电磁场，当测试的探头靠近导体的时候，就会在它的附加产生涡流。如果测试探头离导体的基体越近，它的涡流就会越大，反射阻抗肯定也会更大。事实上，这是一个反馈作用的过程，这个过程中表征了测试探头与导电基体之间距离的大小，换句话说，这就是导体导电基体上非导电覆层厚度的大小。

　　采用电涡流测试的原理，原则上需要对导体上的非导电体覆盖层均可以进行测量，技术人员告诉我们，覆层材料是有一定的导电性的，通过校准也是可以同时进行测量的，不过在这其中，有一个比较明显的要求就是两个的导电率最好是相差3到5倍左右。

　　这就是跟朋友们介绍分享的膜厚仪一些测量基本原理，本文主要介绍了手持式膜厚测试仪的测量原理、台式膜厚测试仪的测量原理，及其在膜厚测试仪比较流行的测量原理，这种测量原理就是电涡流测量原理。在测量原理中，钢铁经常作为基体的导电体。