产品中心
products center
行业应用 · Application
最新新闻· Latest News
联系我们
联系人:黄先生
电 话:400-992-5592
邮 箱:info@filmgauge.com.cn
地 址:上海市嘉定区浏翔公路955号1号楼A座
您的当前位置:全耀首页 > 产品中心 > 反射光谱薄膜测厚仪 > MProbe Vis薄膜测厚仪
反射光谱薄膜测厚仪
[返回列表]
MProbe Vis薄膜测厚仪
参考价格:15-20万
MProbe Vis薄膜测厚仪大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被MProbe Vis测厚仪测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。
测量范围: 15 nm -50um
波长范围: 400 nm -1100 nm
MProbe Vis薄膜测厚仪适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。
测量指标:薄膜厚度,光学常数
界面友好强大: 一键式测量和分析。
MProbe Vis薄膜测厚仪实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。
(MProble NIR薄膜测厚仪系统示)
性能参数:
精度 | <0.01nm or 0.01% |
准确度 | <0.2% or 1 nm |
稳定性 | <0.02nm or 0.03% |
光斑直径 | 标准3mm, 可以小至3um |
样品大小 | 大于1 mm |
案例1,300nm二氧化硅薄膜的测量:
硅晶圆反射率,测量时间10ms:
案例2,测量500nm氮化铝,测量参数:厚度和表面粗糙度
技术参数:
测量范围 | 15nm-50um |
精度 | <0.01nm or 0.01% |
准确度 | <0.2% or 1 nm |
稳定性 | <0.02nm or 0.03% |
波长范围 | 400-1100nm |
光谱仪和检测器 | F4光谱仪,3600像素CCD检测器,16位深 |
光谱分辨率 | 小于2nm(标准),可选1nm |
光源 | 5W卤钨灯,色温2800,寿命:10000小时 |
反射探头 | 光导光纤(7个纤芯),纤芯400um |
可选硬件模块
FLVis
消色差聚焦透镜,工作距离:35mm,光斑直径:小于0.5mm
FDHolder
面向下面样品适配器,用于透明样品
TO
透射率测量模块
TO Switch
2个通道转换器,用于反射率和透射率测量
20W
20W卤钨灯(色温3100,寿命2000小时)
TR
5V TTL外触发模块,1个外部in触发,启动测量,6路out触发
LP500
长通滤光片,过滤500nm以下光谱,用于光刻胶,其他波长可选
可选软件模块 | |
MOD | 远程控制(TCP),基于Modbus协议 |
CM | 动态测量模块,设定时间间隔,用于在线测量 |
我们乐意为您进行免费样品测量,欢迎来电咨询。
美国Semiconsoft中国总代理 上海全耀仪器设备有限公司
Email:info@filmgauge.com.cn
上一个产品: MProbe系列薄膜测厚仪
下一个产品: MProbe UVVisSR薄膜测厚仪
-
MProbe UVVisSR薄膜测厚仪
该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 测量范围: 1 nm -50um 波长范围: 200 nm -1000 nm MProbe UVVisSR薄膜测厚仪适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 测量指标:薄膜厚度,光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。 (MProble NIR薄膜测厚仪系统示 ) 系统性能参数: 精度 <0.01nm or 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直径 标准3mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 案例1,73nm SiN氮化硅薄膜的测量 硅晶圆反射率,测量时间10ms 使用Tauc-Lorentz模型,测量SiN薄膜的n和k值 技术参数: 测量范围 100nm-2...
-
MProbe RT薄膜测厚仪
该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 测量范围: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR) 波长范围: 200 nm -1000 nm(UVVis) 200nm-1700nm(UVVisNIR) 适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等; 蓝宝石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波长范围(200-1700nm): 系统性能参数: 精度 <0.1nm or 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.05nmor 0.03% 光斑直径 标准2mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 测量指标:薄膜厚度,光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。 技术参数: 测量范围 ...
-
MProbe NIR薄膜测厚仪
采用近红外光谱(NIR)的测厚仪可以用于测量一些可见光和紫外光无法使用的应用领域,比如在可见光范围内有吸收的太阳能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的测量。 测量范围: 100 nm -200um 波长范围: 900 nm -2500 nm 适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 测量指标:薄膜厚度,光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。 (MProble NIR薄膜测厚仪系统示) 系统性能参数: 精度 <0.01nm or 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直径 标准3mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 技术参数: 测量范围 100nm-200um 精度 <0.01nmor 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.02nmor 0.03% 波长范围 NIR: 900-1700 NIRX: 900-2200 NIRX2:1550-2500nm ...
-
MAI显微镜适配器
MAI显微镜适配器,可与任何一台正置显微联用,将MProble系列测厚仪加到显微镜上,用于微小样品的厚度测量,包含一个200万像素CCD,可对测量区域进行成像。 尺寸 100mm x 40mm x 30mm 重量 0.5kg 显微镜接口 C型接口 相机 200万像素 通讯 USB连接 电源 USB供电 (MAI显微镜适配器示意图) (测量区域拍照,十字线中点为测量点) 我们乐意为您进行免费样品测量,欢迎来电咨询。 美国Semiconsoft中国总代理 上海全耀仪器设备有限公司 全国咨询热线:400-992-5592 Email:info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理产品:膜厚测量仪,薄膜测试仪,膜厚仪,厚度测量仪以及MProbe MSP显微薄膜测试仪等,欢迎广大用户前来订购。