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反射光谱薄膜测厚仪
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MProbe RT薄膜测厚仪
参考价格:15-20万
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)
测量范围: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR)
波长范围: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等;
蓝宝石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波长范围(200-1700nm):
系统性能参数:
精度 | <0.1nm or 0.01% |
准确度 | <0.2% or 1 nm |
稳定性 | <0.05nm or 0.03% |
光斑直径 | 标准2mm, 可以小至3um |
样品大小 | 大于1 mm |
测量指标:薄膜厚度,光学常数
界面友好强大: 一键式测量和分析。
实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。
技术参数:
测量范围 | 1nm-50um 或1nm-150um |
精度 | <0.1nm or 0.01% |
准确度 | <0.2% or 1 nm |
稳定性 | <0.05nm or 0.03% |
波长范围 | 200-1000nm 或 200-1700nm |
光谱仪和检测器 | F4光谱仪,3600像素CCD检测器,16位深 |
F3光谱仪,512像素InGaAs 检测器 | |
光谱分辨率 | 2nm(UVVis),4nm(NIR) |
光源 | 20W卤钨灯(添加氙),色温3100,寿命:2000小时 |
(内部结构示意图)
我们乐意为您进行免费样品测量,欢迎来电咨询。
美国Semiconsoft中国总代理 上海全耀仪器设备有限公司
Email:info@filmgauge.com.cn
上海全耀代理产品:膜厚测量仪,薄膜测试仪,膜厚仪,厚度测量仪以及MProbe MSP显微薄膜测试仪等,欢迎广大用户前来订购。
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下一个产品: MProbe NIR薄膜测厚仪
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MProbe Vis薄膜测厚仪
大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被MProbe Vis测厚仪测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。 测量范围: 15 nm -50um 波长范围: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜测厚仪适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 测量指标:薄膜厚度,光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 MProbe Vis薄膜测厚仪实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。 (MProble NIR薄膜测厚仪系统示) 性能参数: 精度 <0.01nm or0.01% 准确度 <0.2% or 1 nm 稳定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直径 标准3mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 案例1,300nm二氧化硅薄膜的测量: 硅晶圆反射率,测量时间10ms: 案例2,测量500nm氮化铝,测量参数:厚度和表面粗糙...
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MProbe UVVisSR薄膜测厚仪
该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 测量范围: 1 nm -50um 波长范围: 200 nm -1000 nm MProbe UVVisSR薄膜测厚仪适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 测量指标:薄膜厚度,光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。 (MProble NIR薄膜测厚仪系统示 ) 系统性能参数: 精度 <0.01nm or 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直径 标准3mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 案例1,73nm SiN氮化硅薄膜的测量 硅晶圆反射率,测量时间10ms 使用Tauc-Lorentz模型,测量SiN薄膜的n和k值 技术参数: 测量范围 100nm-2...
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便携式探头
测量曲面样品或样品无法移动时,需要用到特殊的探头,这些探头包裹一层柔性橡胶,可以直接放到样品上面,用光纤将其与主机相连。基于不同的应用,有三个型号可选。 MP-FLVi:用于基底较薄且透光的薄膜,需要消除背面反射 MP-RP90:用于可接受2mm光斑直径及不需要考虑背面反射的样品 MP-RP45:可用45度测量厚度 MP-FLVis 包含可见光聚焦镜头,0.4mm光斑直径 MP-RP90 2mm光斑直径,光谱范围较宽 MP-RP45 包含两个石英准直器,以45度角测量样品 我们乐意为您进行免费样品测量,欢迎来电咨询。 美国Semiconsoft中国总代理 上海全耀仪器设备有限公司 全国咨询热线:400-992-5592 Email:info@filmgauge.com.cn 上海全耀代理产品:膜厚测量仪,薄膜测试仪,膜厚仪,厚度测量仪以及MProbe MSP显微薄膜测试仪等,欢迎广大用户前来订购。
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MProbe系列薄膜测厚仪
当一束光入射到薄膜表面时,薄膜上表面和下表面的反射光会发生干涉,干涉的发生与薄膜厚度及光学常数等有关,反射光谱薄膜测厚仪就是基于此原理来测量薄膜厚度。 反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术。 测量范围: 1 nm - 1 mm 波长范围: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 产品特点: a. 最高的测量精度:0.01nm或0.01% b. 准确度:1nm或0.2% c. 稳定性:0.02nm或0.02% d. 强大的软件材料库,包含500多种材料的光学常数 e. 通过Modbus TCP或OPC协议,与其他设备联用 适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺) 标准配置中包含: 1. 主机(光谱仪,光源,电线) 2. 反射光纤 3. 样品台及光纤适配器 4. TFCompanion软件 5. 校准套装 6. 测试样品,200nm...