采用近红外光谱(NIR)的测厚仪可以用于测量一些可见光和紫外光无法使用的应用领域，比如在可见光范围内有吸收的太阳能薄膜(CIGS, CdTe)可以快速的测量。 测量范围: 100 nm -200um 波长范围: 900 nm -2500 nm 适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 测量指标：薄膜厚度，光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 实用的工具：曲线拟合和灵敏度分析，背景和变形校正，连接层和材料，多样品测量，动态测量和产线批量处理。 （MProble NIR薄膜测厚仪系统示） 系统性能参数： 精度 <0.01nm or 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.02nmor 0.03% 光斑直径 标准3mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 技术参数： 测量范围 100nm-200um 精度 <0.01nmor 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.02nmor 0.03% 波长范围 NIR: 900-1700 NIRX: 900-2200 NIRX2:1550-2500nm ...

该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 测量范围: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR) 波长范围: 200 nm -1000 nm(UVVis) 200nm-1700nm(UVVisNIR) 适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等； 蓝宝石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波长范围(200-1700nm)： 系统性能参数： 精度 <0.1nm or 0.01% 准确度 <0.2%or 1 nm 稳定性 <0.05nmor 0.03% 光斑直径 标准2mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 测量指标：薄膜厚度，光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 实用的工具：曲线拟合和灵敏度分析，背景和变形校正，连接层和材料，多样品测量，动态测量和产线批量处理。 技术参数： 测量范围 ...

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被MProbe Vis测厚仪测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)。 测量范围: 15 nm -50um 波长范围: 400 nm -1100 nm MProbe Vis薄膜测厚仪适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。 测量指标：薄膜厚度，光学常数 界面友好强大: 一键式测量和分析。 MProbe Vis薄膜测厚仪实用的工具：曲线拟合和灵敏度分析，背景和变形校正，连接层和材料，多样品测量，动态测量和产线批量处理。 （MProble NIR薄膜测厚仪系统示） 性能参数： 精度 <0.01nm or0.01% 准确度 <0.2% or 1 nm 稳定性 <0.02nm or 0.03% 光斑直径 标准3mm, 可以小至3um 样品大小 大于1 mm 案例1，300nm二氧化硅薄膜的测量： 硅晶圆反射率，测量时间10ms： 案例2，测量500nm氮化铝，测量参数：厚度和表面粗糙...

当一束光入射到薄膜表面时，薄膜上表面和下表面的反射光会发生干涉，干涉的发生与薄膜厚度及光学常数等有关，反射光谱薄膜测厚仪就是基于此原理来测量薄膜厚度。 反射光谱干涉法是一种非接触式、无损的、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术。 测量范围: 1 nm - 1 mm 波长范围: 200 nm -8000 nm 光斑尺寸:2mum -3 um 产品特点： a. 最高的测量精度：0.01nm或0.01% b. 准确度：1nm或0.2% c. 稳定性：0.02nm或0.02% d. 强大的软件材料库，包含500多种材料的光学常数 e. 通过Modbus TCP或OPC协议，与其他设备联用 适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等 大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 标准配置中包含： 1. 主机(光谱仪，光源，电线) 2. 反射光纤 3. 样品台及光纤适配器 4. TFCompanion软件 5. 校准套装 6. 测试样品，200nm...