硅碳氮（SiCN）薄膜厚度及禁带宽度的测量

硅碳氮(SiCN)薄膜是一种新型的三元功能薄膜材料，因其高硬度、宽光学带隙、良好的高温抗氧化性能及抗腐蚀性能等诸多优点，在微电子半导体和计算机产业等领域具有广阔的应用前景。

使用MProbe UVVisSR薄膜测厚仪测量层积在硅表面的硅碳氮(SiCN)薄膜的厚度，及硅碳氮材料的光学系数和禁带宽度。硅碳氮的色散模型使用Tauc-Lorentz近似模型，包含一个禁带宽度参数。

以下是光谱数据分析：

图1. 1号样品硅碳氮(SiCN)薄膜厚度的测量，测量结果：61.5nm，测量得到的反射光谱曲线和模型曲线拟合度很好，光学系数曲线见图2

图2. 1号样品硅碳氮(SiCN)薄膜的光学常数曲线，禁带宽度：1.32eV

图3. 2号样品硅碳氮(SiCN)薄膜厚度的测量，测量结果：597.9nm，测量得到的反射光谱曲线和模型曲线拟合度很好，光学系数曲线见图4

4. 2号样品硅碳氮(SiCN)薄膜的光学常数曲线，禁带宽度：0.854eV

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