聊聊薄膜测厚仪设备有哪些技术参数

　　任何设备的使用都离不开设计思想的定义以及材质的发挥，薄膜测厚仪也是一个很好的例子。作为一个先进的测量设备，薄膜测厚仪的使用获得了人们的关注和青睐。上海全耀作为优质的设备提供商，下面就和大家一起讨论下薄膜测厚仪的各项技术参数。

　　在薄膜测厚仪制作过程中对其测量方式做了一次全新的改变，采用特殊的光学反射原理，在测量的时候不需要对被测量物体进行接触，提升了测量精度的同时也为设备的使用便捷性打下了良好的基础。相比一般的测量设备，薄膜测厚仪已经对设备的精确度到了100nm-200nm，同时薄膜测厚仪采用了适当的测量辅助措施帮助设备在测量的过程中保障很好的平稳性。一般的精度误差会控制在0.01nm作用，同时保障测量的数据控制在0.01%，保障了我们所需要的数据精确性。

　　同时根据设备制式的不同，能够测量的波长范围也进行了重新的划分，包括NIR参数控制在900-1700，NIRX控制在900-2200左右，而最长的 NIRX2在1500-2500之间。不仅是设备的波长范围得到了提升，同时在设备制作的过程中使用了先进的光谱仪以及检测器对设备的测量过程进行很好的辅助。

　　光谱仪采用的F4光圈作为使用的原理，超大光圈让设备在检测的时候可以更好的控制相应的像素，提升整个设备的清晰度。不仅是光圈做了大规模的调整，同时针对光源设备的使用也更加的出色，一般在光源的选取上都会采用卤钨灯作为基础材质，色温一般控制在2800左右，同时卤钨灯最大的特点就是在于使用寿命长。最后，薄膜测厚仪的反射探头采用了光导纤维7纤芯作为主导，提升了设备整体的反应速度。

　　总之，在设备制作的过程中对薄膜测厚仪的各项技术参数做了大幅度的提升， 也为设备的使用性能做了坚实的铺垫。上海全耀是一家专业的薄膜测厚仪提供商，有着各种各样类型的薄膜测厚仪设备，能够确保使用的过程中各项性能的发挥。